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              Eksma 高反射鍍膜

              簡要描述:Eksma 高反射鍍膜
              多層介電高反射率(HR)鍍膜是用于在AOI = 0&#176;或45&#176;時在特定的激光線波長處實現較高反射率的疊層。我們提供226 nm至2100 nm的HR激光線鍍膜。

              • 產品品牌:Eksma
              • 廠商性質:代理商
              • 更新時間:2021-03-22
              • 訪  問  量:1053

              詳細介紹

              品牌Eksma價格區間面議
              組件類別光學元件應用領域醫療衛生,環保,化工,電子/電池,綜合

              Eksma 高反射鍍膜




              Eksma 高反射鍍膜

              介電多層高反射率鍍膜是用于在AOI = 0°或45°時在特定的激光線波長處實現較大可能反射率的疊層。

              產品介紹

              多層介電高反射率(HR)鍍膜是用于在AOI = 0°或45°時在特定的激光線波長處實現較高反射率的疊層。我們提供226 nm至2100 nm的HR激光線鍍膜。

              激光線高反射率鍍膜適用于外部光束處理應用,在這些應用中,甚至可能會有很小的損失。

              請發送帶有鍍膜和基材代碼的定制產品請求,以獲取報價。對于基材,請參閱我們的標準未鍍膜激光窗口部分。

              EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
              EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
              EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
              公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
              EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
              公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

              產品型號

              高反射率激光線鍍膜

              鍍膜型號

              波長

              反射率(%)

              推薦

              損傷

              AOI=0°


              AOI=45°


              nm


              AOI=0°

              AOI=45°

              基材

              閾值

              1007-i0

              1007-i45

              226

              >99

              >99

              UVFS

              1 J/cm2
              in 10 ns

              1009-i0

              1009-i45

              248

              >99

              >99

              UVFS

              1.5 J/cm2
              in 10 ns

              1011-i0

              1011-i45

              266

              >99.5

              >99

              UVFS

              1.5 J/cm2
              in 10 ns

              1013-i0

              1013-i45

              308

              >99.5

              >99.2

              UVFS

              1.5 J/cm2
              in 10 ns

              1015-i0

              1015-i45

              325

              >99.5

              >99.2

              UVFS

              1.5 J/cm2
              in 10 ns

              1017-i0

              1017-i45

              337

              >99.7

              >99.5

              UVFS

              1.5 J/cm2
              in 10 ns

              1019-i0

              1019-i45

              355

              >99.7

              >99.5

              UVFS

              1.5 J/cm2
              in 10 ns

              1021-i0

              1021-i45

              400

              >99.7

              >99.5

              UVFS

              1.5 J/cm2
              in 10 ns

              1023-i0

              1023-i45

              473

              >99.7

              >99.5

              UVFS, BK7

              1.5 J/cm2
              in 10 ns

              1024-i0

              1024-i45

              488-515

              >99.7

              >99.5

              UVFS, BK7

              1.5 J/cm2
              in 10 ns

              1025-i0

              1025-i45

              532

              >99.7

              >99.5

              UVFS, BK7

              5 J/cm2
              in 10 ns

              1027-i0

              1027-i45

              589

              >99.7

              >99.5

              UVFS, BK7

              5 J/cm2
              in 10 ns

              1029-i0

              1029-i45

              616

              >99.7

              >99.5

              UVFS, BK7

              5 J/cm2
              in 10 ns

              1030-i0

              1030-i45

              633

              >99.7

              >99.5

              UVFS, BK7

              5 J/cm2
              in 10 ns

              1031-i0

              1031-i45

              780

              >99.7

              >99.5

              UVFS, BK7

              5 J/cm2
              in 10 ns

              1032-i0

              1032-i45

              800

              >99.7

              >99.5

              UVFS, BK7

              5 J/cm2
              in 10 ns

              1033-i0

              1033-i45

              830

              >99.7

              >99.5

              UVFS, BK7

              5 J/cm2
              in 10 ns

              1034-i0

              1034-i45

              852

              >99.7

              >99.5

              UVFS, BK7

              5 J/cm2
              in 10 ns

              1037-i0

              1037-i45

              1064

              >99.7

              >99.5

              UVFS, BK7

              5 J/cm2
              in 10 ns

              1039-i0

              1039-i45

              1320

              >99.7

              >99.5

              UVFS, BK7

              1.5 J/cm2
              in 10 ns

              1045-i0

              1045-i45

              1550

              >99.7

              >99.5

              UVFS, BK7

              1.5 J/cm2
              in 10 ns

              1047-i0

              1047-i45

              2000

              >99

              >99

              UVFS, Sapphire

              1.5 J/cm2
              in 10 ns

              1049-i0

              1049-i45

              2100

              >99

              >99

              UVFS, Sapphire

              1.5 J/cm2
              in 10 ns

               

              高反射率寬帶涂層

              鍍膜型號

              波長

              反射率(%)

              推薦

              損傷

              AOI=0°


              AOI=45°


              nm


              AOI=0°

              AOI=45°

              基材

              閾值

              1106-i0

              1106-i45

              220-250

              >99

              >99

              UVFS

              1 J/cm2 in 10 ns

              1110-i0

              1110-i45

              260-340

              >99

              >99

              UVFS

              1 J/cm2
              in 10 ns

              1114-i0

              1114-i45

              350-450

              >99

              >99

              UVFS

              1 J/cm2
              in 10 ns

              1116-i0

              1116-i45

              420-680

              >99

              >99

              UVFS, BK7

              1 J/cm2
              in 10 ns

              1130-i0

              1130-i45

              600-900

              >99

              >99

              UVFS, BK7

              1 J/cm2
              in 10 ns

              1132-i0

              1132-i45

              720-880

              >99

              >99

              UVFS, BK7

              1 J/cm2
              in 10 ns

              1133-i0

              1133-i45

              760-840 nm

              >99

              >99

              UVFS, BK7

              1 J/cm2
              in 10 ns

              1142-i0

              1142-i45

              900-1100

              >99

              >99

              UVFS, BK7

              1.5 J/cm2
              in 10 ns

              1144-i0

              1144-i45

              1100-1400

              >99

              >99

              UVFS, BK7

              1.5 J/cm2
              in 10 ns

               EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
              EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
              EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
              公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
              EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
              公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

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