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              Eksma 部分反射鍍膜

              簡要描述:Eksma 部分反射鍍膜
              部分反射鍍膜是耐用的多層介電鍍膜,旨在用于有效的光束分離以及激光腔中的輸出耦合。它們被設計用于大功率激光應用。

              • 產品品牌:Eksma
              • 廠商性質:代理商
              • 更新時間:2021-03-22
              • 訪  問  量:1120

              詳細介紹

              品牌Eksma價格區間面議
              組件類別光學元件應用領域醫療衛生,環保,化工,電子/電池,綜合

              Eksma 部分反射鍍膜


              Eksma 部分反射鍍膜

              部分反射鍍膜是耐用的多層介電鍍膜,旨在用于有效的光束分離以及激光腔中的輸出耦合。

              產品描述

              部分反射鍍膜是耐用的多層介電鍍膜,旨在用于有效的光束分離以及激光腔中的輸出耦合。它們被設計用于大功率激光應用。

              我們提供適用于不同波長和反射值的一系列標準局部反射鍍膜。請與我們聯系以獲取其他波長,AOI或反射值。

              請發送帶有鍍膜和基材代碼的定制產品請求,以獲取報價。對于基材,請參閱我們的標準未鍍膜激光窗口部分。

              我們還提供標準的分束器和輸出耦合器,可快速交付:

              ØNd:YAG LaserLine分束器(1064 nm,532 nm,355 nm,266 nm)

              ØFemtoline分束器(1030 nm,800 nm,515 nm,400 nm,343 nm,266 nm)

              ØFemtoline寬帶分束器(720-880 nm,750-850 nm)

              ØNd:YAG LaserLine輸出耦合器(1064 nm nm)

              ØFemtoline輸出耦合器(1030 nm,800 nm)

              EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
              EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
              EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
              公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
              EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
              公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

              產品型號

              鍍膜型號

              波長

              反射率

              推薦

              損傷

              AOI=0

              AOI=45


              nm


              %

              基材

              閾值

              2012-i0

              2012-i45

              248

              25±3

              UVFS

              1 J/cm2
              in 10 ns

              2015-i0

              2015-i45

              248

              50±3

              UVFS

              1 J/cm2
              in 10 ns

              2017-i0

              2017-i45

              248

              75±3

              UVFS

              1 J/cm2
              in 10 ns

              2022-i0

              2022-i45

              266

              25±3

              UVFS

              1 J/cm2
              in 10 ns

              2025-i0

              2025-i45

              266

              50±3

              UVFS

              1 J/cm2
              in 10 ns

              2027-i0

              2027-i45

              266

              75±3

              UVFS

              1 J/cm2
              in 10 ns

              2032-i0

              2032-i45

              308

              25±3

              UVFS

              1 J/cm2
              in 10 ns

              2035-i0

              2035-i45

              308

              50±3

              UVFS

              1 J/cm2
              in 10 ns

              2037-i0

              2037-i45

              308

              75±3

              UVFS

              1 J/cm2
              in 10 ns

              2042-i0

              2042-i45

              355

              25±3

              UVFS

              2 J/cm2
              in 10 ns

              2045-i0

              2045-i45

              355

              50±3

              UVFS

              2 J/cm2
              in 10 ns

              2047-i0

              2047-i45

              355

              75±3

              UVFS

              2 J/cm2
              in 10 ns

              2052-i0

              2052-i45

              400

              25±3

              UVFS

              3 J/cm2
              in 10 ns

              2055
              -i0

              2055
              -i45

              400

              50±3

              UVFS

              3 J/cm2
              in 10 ns

              2057-i0

              2057-i45

              400

              75±3

              UVFS

              3 J/cm2
              in 10 ns

              2062-i0

              2062-i45

              532

              25±3

              UVFS, BK7

              3 J/cm2
              in 10 ns

              2065-i0

              2065-i45

              532

              50±3

              UVFS, BK7

              3 J/cm2
              in 10 ns

              2067-i0

              2067-i45

              532

              75±3

              UVFS, BK7

              3 J/cm2
              in 10 ns

              2069-i0

              2069-i45

              633

              25±3

              UVFS, BK7

              1.5 J/cm2
              in 10 ns

              2070-i0

              2070-i45

              633

              50±3

              UVFS, BK7

              1.5 J/cm2
              in 10 ns

              2071-i0

              2071-i45

              633

              75±3

              UVFS, BK7

              1.5 J/cm2
              in 10 ns

              2072-i0

              2072-i45

              800

              25±3

              UVFS, BK7

              3 J/cm2
              in 10 ns

              2075-i0

              2075-i45

              800

              50±3

              UVFS, BK7

              3 J/cm2
              in 10 ns

              2077-i0

              2077-i45

              800

              75±3

              UVFS, BK7

              3 J/cm2
              in 10 ns

              2079-i0

              2079-i45

              852

              25±3

              UVFS, BK7

              1 J/cm2
              in 10 ns

              2080-i0

              2080-i45

              852

              50±3

              UVFS, BK7

              1 J/cm2
              in 10 ns

              2081-i0

              2081-i45

              852

              75±3

              UVFS, BK7

              1 J/cm2
              in 10 ns

              2082-i0

              2082-i45

              1064

              25±3

              UVFS, BK7

              3 J/cm2
              in 10 ns

              2085-i0

              2085-i45

              1064

              50±3

              UVFS, BK7

              3 J/cm2
              in 10 ns

              2087-i0

              2087-i45

              1064

              75±3

              UVFS, BK7

              3 J/cm2
              in 10 ns

              2089-i0

              2089-i45

              1550

              25±3

              UVFS, BK7

              2 J/cm2
              in 10 ns

              2090-i0

              2090-i45

              1550

              50±3

              UVFS, BK7

              2 J/cm2
              in 10 ns

              2091-i0

              2091-i45

              1550

              75±3

              UVFS, BK7

              2 J/cm2
              in 10 ns

               EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
              EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
              EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
              公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
              EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
              公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

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